近年來，以第三代半導體材料為基礎的新興技術正迅速崛起，碳化硅由于具有寬帶隙、低電阻、良好的導熱性和導電性等一系列優點使其可以作為第三代半導體材料的代表成為全球半導體市場爭奪的焦點，作為耐高溫高頻的器件廣泛的應用于LED燈、集成電路和逆變器中。隨著信息技術和科技的不斷進步，市場上對碳化硅的表面平整度提出了更高的要求，工業要求最終的碳化硅晶圓表面光滑平整無缺陷，而傳統的工藝如機械拋光和(he)化學(xue)拋(pao)光，前者(zhe)單(dan)純利用(yong)簡單(dan)的(de)(de)機械研磨，后(hou)者(zhe)僅依(yi)靠腐蝕劑的(de)(de)化學(xue)反應(ying)，兩者(zhe)都(dou)會對(dui)晶圓表(biao)面造(zao)成損(sun)傷。目前，唯一能解決這個難題(ti)的(de)(de)就是將二者(zhe)結合起來——化學(xue)機械拋(pao)光技術(shu)（CMP）。

       化學機械拋光技術是目前集成電路芯片全局平面化的最好方法。該技術將拋光液漿料的化學作用和漿料中磨粒的機械磨削作用緊密地結合在一起，整平拋光片表面，因此，拋光液是CMP技術中的關鍵因素。拋光液主要由磨料、溶劑和(he)添加劑組成，其中磨(mo)料的(de)(de)(de)種類、硬(ying)(ying)度(du)、形(xing)貌、大小(xiao)、粒度(du)分(fen)布(bu)會(hui)(hui)影響(xiang)到拋光(guang)質量的(de)(de)(de)好壞，比(bi)如磨(mo)料的(de)(de)(de)硬(ying)(ying)度(du)過大、形(xing)貌不(bu)規則(ze)會(hui)(hui)引起CMP過程中機械作用的(de)(de)(de)比(bi)重增大，堅硬(ying)(ying)的(de)(de)(de)、形(xing)貌不(bu)規則(ze)的(de)(de)(de)磨(mo)料與被拋光(guang)工(gong)件的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)(mian)接觸，雖然會(hui)(hui)使(shi)得材(cai)料去除效率大幅度(du)增加，但工(gong)件表(biao)面(mian)(mian)會(hui)(hui)出現(xian)較多的(de)(de)(de)劃傷、坑洼等不(bu)平坦現(xian)象，使(shi)得表(biao)面(mian)(mian)粗糙度(du)較大。

       目(mu)前市場上使(shi)用最為廣(guang)泛的(de)幾種磨(mo)料(liao)(liao)是(shi)SiO2、CeO2、Al2O3。SiO2拋(pao)光(guang)(guang)(guang)液選(xuan)擇性(xing)、分(fen)散(san)性(xing)好，機械磨(mo)損性(xing)能較(jiao)(jiao)好，化學(xue)性(xing)質活(huo)潑，并(bing)且后清(qing)洗過程處理較(jiao)(jiao)容易(yi)；缺(que)點為在拋(pao)光(guang)(guang)(guang)過程中易(yi)產生凝膠，對硬(ying)底材(cai)料(liao)(liao)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)速率低；CeO2拋(pao)光(guang)(guang)(guang)液的(de)優點是(shi)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)速率高，材(cai)料(liao)(liao)去除速率高，缺(que)點是(shi)黏度大、易(yi)劃傷，且選(xuan)擇性(xing)不好，后續清(qing)洗困難；Al2O3拋(pao)光(guang)(guang)(guang)液的(de)缺(que)點在于(yu)選(xuan)擇性(xing)低、分(fen)散(san)穩定性(xing)不好、易(yi)團聚(ju)等，但對于(yu)硬(ying)底材(cai)料(liao)(liao)襯(chen)底等卻具有優良(liang)的(de)去除速率。隨著LED、第(di)三代半(ban)導體的(de)發展，Al2O3在CMP中的(de)應用顯得更為重要。

       前(qian)面(mian)我們說到磨(mo)料的(de)(de)(de)形貌、大小、粒度(du)分布等會影(ying)響(xiang)到拋光質量的(de)(de)(de)好壞(huai)，對研磨(mo)拋光所(suo)用的(de)(de)(de)高(gao)(gao)(gao)純氧化(hua)鋁而言，利用不同(tong)制備方法所(suo)得(de)的(de)(de)(de)氧化(hua)鋁性質也(ye)不盡相同(tong)。目前(qian)，水解法、溶膠凝膠法等液相法是制備高(gao)(gao)(gao)品(pin)質高(gao)(gao)(gao)純氧化(hua)鋁的(de)(de)(de)常(chang)用方法，這些方法往(wang)往(wang)最終需要對中間產物進(jin)行高(gao)(gao)(gao)溫煅(duan)燒，煅(duan)燒工(gong)藝對最終產品(pin)的(de)(de)(de)性能(neng)同(tong)樣有(you)一些微妙的(de)(de)(de)影(ying)響(xiang)，并(bing)最終影(ying)響(xiang)拋光效(xiao)果。