納米二氧化硅拋光粉/拋光液
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我公司系列二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料,光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術指標:
型號 | 外觀 | 粒徑 | 含量 | 應用 |
VK-SP50W | 白色液體 | 50nm/100nm | 30% | 精拋 |
納米二氧化硅拋光粉/拋光液 | 白色粉末 | 50nm | 99.8% | 精拋 |
VK-SP100F | 白色粉末 | 100nm | 99.8% | 精拋 |
我公(gong)司(si)生產的(de)納米二氧(yang)化硅(gui)拋(pao)光(guang)粉具有粒徑小(xiao)、分散性(xing)好,粘度(du)低,拋(pao)光(guang)亮度(du)高,光(guang)澤(ze)細膩,可以解決(jue)材料表(biao)面(mian)粗糙度(du)、波紋度(du)和表(biao)面(mian)缺陷等問題。 可以做光學玻璃(li)拋光,玻璃水鉆(zhan)拋光,寶石拋光,金屬拋光,石材(cai)拋(pao)光等精拋。
用量
推薦用量為(wei)8~20%,調成漿料再進行拋光。
儲藏:常溫密閉儲藏。
包裝:10公斤/袋,20公斤/桶。